布洛赫光谱学基础的内容是什么？

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2022-11-15 23:28 标签： 布鲁克光谱

深圳市拓力智慧科技有限公司

频谱分析系统主要的功能是在频域里显示输入信号的频谱特性。频谱分析仪依信号处理方式的不同，一般有两种类型；即时频谱分析仪（Real-Time Spectrum Analyzer）与扫描调谐频谱分析仪（Sweep-Tuned Spectrum Analyzer).即时频率分析仪的功能为在同一瞬间显示频... 点击进入详情页

本回答由深圳市拓力智慧科技有限公司提供

下载百度知道APP，抢鲜体验

使用百度知道APP，立即抢鲜体验。你的手机镜头里或许有别人想知道的答案。

相干散射（汤姆逊散射）：散射波的波长和频率与入射波完全相同，新的散射波之间将可以发生相互干涉-----相干散射 不相干散射（康普顿散射）：散射辐射的波长λ?应要比入射光束的波长λ?长，波长的增量Δλ取决于散射角α，散射位相与入射波位相之间不存在固定关系，故这种散射是不相干的，称之为非相干散射。 荧光辐射：能量较高的光子和原子作用后，转变为较低能量的光子时所发生的辐射。 俄歇效应：原子发射的一个电子导致另一个或多个电子（俄歇电子）被发射出来而非辐射X射线（不能用光电效应解释），使原子、分子成为高阶离子的物理现象，是伴随一个电子能量降低的同时，另一个（或多个）电子能量增高的跃迁过程 吸收限：物质对电磁辐射的吸收随辐射频率的增大而增加至某一限度即骤然增大。 试述布拉格公式及其各参数的含义，以及该公式有哪些应用？ 2dsinθ = n λ 式中：n—任意正整数，称反射级数, θ角表示掠过角或布拉格角; d为晶面间距。 应用：（1）已知晶体的d 值。通过测量θ，求特征X 射线的λ，并通过λ判断产生特征X 射线的元素。这主要应用于X 射线荧光光谱仪（2）已知入射X 射线的波长， 通过测量θ，求晶面间距。并通过晶面间距，测定晶体结构或进行物相分析。 试简要总结由分析简单点阵到复杂点阵衍射强度的整个思路和要点？ 答:在进行晶体结构分析时,重要的是把握两类信息,第一类是衍射方向,即θ角,它在λ一定的情况下取决于晶面间距d。衍射方向反映了晶胞的大小和形状因素,可以利用布拉格方程来描述。第二类为衍射强度,它反映的是原子种类及其在晶胞中的位置。 简单点阵只由一种原子组成，每个晶胞只有一个原子，它分布在晶胞的顶角上，单位晶胞的散射强度相当于一个原子的散射强度。复杂点阵晶胞中含有n个相同或不同种类的原子，它们除占据单胞的顶角外，还可能出现在体心、面心或其他位置。??? 复杂点阵的衍射波振幅应为单胞中各原子的散射振幅的合成。由于衍射线的相互干涉，某些方向的强度将会加强，而某些方向的强度将会减弱甚至消失。这样就推导出复杂点阵的衍射规律—称为系统消光。 阐述多晶体X射线衍射强度影响因素及其应用？ 解：①结构因子②角因子包括极化因子和洛仑兹因子③多重性因子④吸收因子⑤温度因子。应用：利用各影响因子对衍射强度的影响，可判断出晶胞内原子的种类，原子个数，原子位置。结构因子：①消光规律的判断；②金属间化合物的有序度的判断。角因子：利用谢乐公式研究晶粒尺寸大小； 多重性因子：等同晶面对衍射强度的影响 吸收规律：试样形状和衍射方向的不同，衍射线在试样中穿行的路径便不同，引起吸收效果的不一样。温度因子：研究晶体的热运动，测定热膨胀系数等。 透射电镜主要组成，其中有哪些主要光阑，在什么位置？其作用如何？ 答：主要组成，照明系统，样品室，成像系统，观察记录系统，真空系统：不断排除镜体内的空气和其它气体，保持电镜在高真空下工作，电源控制系统：为电镜提供电源盒控制电镜操作。三种光阑：①聚光镜光阑。在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方。作用:限制照明孔径角。②物镜光阑。安装在物镜后焦面。作用: 提高像衬度；减小孔径角，从而减小像差；进行暗场成像；决定分辨率。③选区光阑:放在物镜的像平面位置。作用: 对样品进行微区衍射分析。 何谓衬度？TEM能产生哪几种衬度象，是怎样产生的，都有何用途？ 答：衬度是指图象上不同区域间明暗程度的差别。TEM能产生质厚衬度象、衍射衬度象及相位衬度象。衍射衬度：晶体样品不同区域满足衍射布拉格条件不同而得到不同振幅强度形成衍射强度差异。质厚衬度是建立在非晶体样品中原子对入射电子的散射和透射电子显微镜小孔径角成像基础上的成像原理，是解释非晶态样品电子显微图像衬度的理论依据。如果透射束与衍射束可以重新组合，从而保持它们的振幅和位相，则可直接得到产生衍射的那些晶面的晶格象，或者一个个原子的晶体结构象。这就是相位衬度象，仅适于很薄的晶体试样(≈100?)。 表面形貌衬度和原子序数衬度各有什么特点？ 答：表面形貌衬度是由于试样表面形貌差别而形成的衬度。电子束在试样上扫描时任何两点的形貌差别，表现为信号强度的差别，从而在图像中形成显示形貌的衬度。二次电子像的衬度是最典型的形貌衬度。由于二次电子信号主要来自样品表层5-10nm深度范围，它的强度与原子序数没有明确的关系，而仅对微区刻面相对于入射电子束的位向十分敏感，且二次电子像分辨率比较高，所以特别适用于显示形貌衬度。 原子序数衬度是由于试样表面物质原子序数（或化学成分）差别而形成的衬度。利用对试样表面原子序数（或化学成分）变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号，可以得到原子序数衬度图像。背散射电子像、吸收电子像的衬度都含有原子序数衬度，而特征X射线像的衬度就是原子序数衬度。粗糙表面的原子序数衬度往往被形貌衬度所

自由形状超原子的超表面调制单元具有更加丰富的布洛赫(Bloch)模式，增加了透射谱的丰富性，从而提升了光谱重建精度和光谱分辨率。对宽谱光和窄谱光进行测量重建的结果表明，窄谱光重建的中心波长偏差标准差仅为0.024nm，24色标准色卡的平均光谱重建保真度达到了98.78%。该工作进一步提升了超表面光谱成像芯片的性能，推动未来光谱成像芯片发展及其在实时传感领域的应用。
清华团队研发的实时超光谱成像芯片是微纳光电子与光谱技术的深度交叉融合，作为光谱技术的颠覆性进展，展示出在实时传感领域的重要应用潜力，相关成果已进行产业化。光谱芯片成果转化企业“北京与光科技有限公司”创立后获数亿元融资，入选2021创业邦100未来独角兽，VENTURE50（中国最具投资价值企业50强）新芽榜，2021年中关村国际前沿科技创新大奖-集成电路领域TOP 10。

我要回帖

更多关于 布鲁克光谱 的文章

 

随机推荐